狹縫擠出式涂布機(jī)應(yīng)用于鋰電池正、負(fù)極極片涂布工藝，是一款應(yīng)用狹縫擠出式涂布模頭對基材進(jìn)行非接觸式涂布的一款設(shè)備。該設(shè)備通過配置slotdie狹縫擠壓涂布模頭、精密計(jì)量供料系統(tǒng)與進(jìn)料閥體配合可實(shí)現(xiàn)連續(xù)涂布、條紋涂布、間歇涂布、網(wǎng)格涂布等涂布工藝。該設(shè)備也適用于對一些其它類型漿料及基材的涂布工藝。設(shè)備具有較高的涂布精度高，一致性和穩(wěn)定性好，可應(yīng)用于鋰離子電池、FCCL、光學(xué)薄膜、膠帶以及各種功能薄膜行業(yè)，適合實(shí)驗(yàn)室或樣品線用于產(chǎn)品的工藝摸索。
狹縫擠出式涂布機(jī)功能特點(diǎn)：
1、slotdie狹縫擠出涂布，涂布精度高、一致性好。
2、可配置多種涂布模頭，以適應(yīng)不同涂料參數(shù)。
3、模頭位置手動(dòng)調(diào)節(jié)，定位精度良好。
4、漿料封閉運(yùn)行，無外界參數(shù)干擾。
5、通過配置閥體和墊片可實(shí)現(xiàn)連續(xù)涂布、間歇涂布、條紋涂布及網(wǎng)格涂布。
6、基材張力控制，走帶穩(wěn)定，收放卷配置糾偏裝置.
7、熱風(fēng)式弧形烘箱，主驅(qū)動(dòng)導(dǎo)向輥，適合低張力走帶.
8、PLC控制，HMI操作，方便易用。
9、標(biāo)配MSK-50取樣器，快速在線取樣測量。
10、標(biāo)配漿液供料裝置MSK-156-L。
11、可選電暈處理。
12、可選靜電消除裝置。
13、可選溶劑處理裝置。
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