真空腔體水氣解吸附組件

真空腔體水氣解吸附組件

Zcuve是近年來國際上較多使用的水蒸氣解吸技術。*的設計可從2.75“擴展到8"法蘭尺寸，具有比例較高的紫外線功率因數(shù)和較大的法蘭尺寸。

Zcuve的設計目的是在真空室內不可能有一個暴露的紫外線發(fā)射器的情況下，從大型沉積室中解吸水。標準現(xiàn)成的百葉窗可用于防止Zcuve在沉積過程中被涂層。

這一過程在O型環(huán)（氟橡膠）密封真空室（沒有任何其他烘烤方式）上效果好，也適用于較小尺寸的樣品傳輸。

技術參數(shù)：

An external assembly houses the UV emitter, which is situated just behind 高紫外線透射，超高真空窗。發(fā)射器背面的一面鏡子進一步改善了185納米紫外線輻射通過窗戶進入真空室的傳輸。Zcuve外殼用惰性氣體進行回填，以防止外殼內產(chǎn)生臭氧。最后，發(fā)射極引線經(jīng)由mhv高壓連接器連接至控制裝置。

主要特點：

利用紫外輻射解吸水蒸氣的優(yōu)點是產(chǎn)生很少的熱量。更少的熱量意味著更少的機械零件和樣品損壞。另一個優(yōu)點是，uvc不需要直接的現(xiàn)場線路來解吸水蒸氣。它不能進入角落和縫隙，但它可以反射拋光表面（如室壁），每次“反彈"損失50%到70%。

UVB-100
uvb-100使用uvc輻射無需加熱就可以釋放水蒸氣。發(fā)射器伸入真空室。

ZCuVE
零間隙紫外發(fā)射器水蒸氣解吸系統(tǒng)（Zcuve）利用紫外輻射無熱解吸水蒸氣。發(fā)射器位于真空室外面。

注：這些水蒸氣解吸產(chǎn)品設計用于高真空系統(tǒng)、大真空、氣室和樣品傳輸。它們的設計并不是為了取代超高真空系統(tǒng)中的輻射烘烤方法，而是與特高壓兼容。